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“中芯國際突然被評級公司認定為有‘較大不確定性’。”

作者:苗正

編輯:tuya

出品:財經塗鴉

公司情報專家《財經塗鴉》訊息,12月28日,中誠信國際釋出關於關注中芯國際積體電路製造有限公司(00981.HK)被納入“實體清單”的公告。中誠信國際認為,中芯國際被納入“實體清單”使得公司未來生產經營和投資面臨較大的不確定性,中誠信國際將持續關註上述事項的後續進展,並與中芯國際保持溝通,積極收集相關資料,及時評估上述事項對公司未來生產經營及整體信用狀況的影響,並披露相關資訊。公告稱,中芯國際發行的“19 中芯國際 MTN001”由中誠信國際進行相關評級工作。

一路蒸蒸日上的中芯國際突然被其評級公司認定為有“較大不確定性”。

自2020年12月中芯國際CEO離職後,該企業收到了一個巨大的噩耗。中芯國際放出了這樣一條公告,稱中芯國際積體電路製造有限公司被納入了“實體清單”。

公告中解釋道,針對適用於美國《出口管制條例》的產品或技術,供應商須獲得美國商務部的出口許可才能向公司供應;對用於10nm及以下技術節點(包括極紫外光技術)的產品或技術,美國商務部會採取“推定拒絕”(Presumptionof Denial)的審批政策進行稽覈;同時公司為部分特殊客戶提供代工服務也可能受到一定限制。

這對於中芯國際又意味著什麼呢?

卡死10nm

2020年10月,中芯國際官網新聞表示,該企業已經完成了7nm製程N+1工藝的流片,預計2021年時,7nm製程晶片可以風險量產(即小規模、低良品率)。所謂N+1,實際上是一種內部代號,仍然採用DUV進行生產,而非臺積電和三星那樣使用EUV進行生產。

雖然中芯國際並未公開N+1 7nm晶片的詳細資料,但是依照英特爾10nm的情況來看,該製程晶片CPP為54,金屬層2高度(M2P)為44,軌道高度為6.18。這樣的數值與臺積電的三星的7LPP製程7nm晶片以及臺積電的7FF製程7nm晶片相當。且梁孟鬆也曾公開表示,N+1 7nm製程更像是三星的8nm製程,因此中芯國際該製程晶片是一種7nm等效技術,可在電子裝置上實現等同於7nm效能的效果,但晶片本身並非是7nm。

晶片在光刻過程中,會利用紫外光對晶圓進行曝光,曝光後利用化學材料進行顯影,如過無法實現一次曝光定型,那就需要再塗膠和曝光。越複雜的晶片就需要越多次的曝光,傳統的DUV機器想要實現7nm的要求就需要進行多次曝光。但是多次曝光會大幅增加材料成本,同時還會降低良品率,無法適用於企業級的大規模量產。於是ASML推出了EUV,只需要一次曝光就可以滿足7nm,甚至更先進規格晶片的要求。

之所以“實體清單”中明確限制了10nm,是因為晶片製程在國際社會中並沒有明確規定,這也是為什麼英特爾的10nm製程和臺積電的7nm製程所差無幾的原因。而英特爾方面,該企業的10nm製程之後是7nm製程,傳統DUV機器無法實現7nm製程的量產,這時就需要用到EUV機器。

同理,如果中芯國際想要進軍7nm製程,也必須要用到EUV。再回到“實體清單”部分,這份“實體清單”剛好卡住了中芯國際的脖子。

早在2018年時,中芯國際曾向荷蘭光刻機生產商ASML訂購了一臺EUV光刻機,價值1.2億美元(約合人民幣8億元),預計2019年年初交貨。而ASML公司也持有《瓦森納協議》下,向中國出口光刻機產品的許可證。

然而事與願違,這項交易最終被不可抗力終止。ASML 對此表示,公司仍在等待新許可證申請的批准。

2020年,蔣尚義出任公司副董事長後,他向ASML再一次提出了就進口EUV一事的談判邀請。通過美國下達的“實體清單”指令,這次的談判多半是成功了,不過多半是沒法實現。

出走的梁孟鬆

梁孟鬆上任於2017年10月,與原CEO趙海軍共同作為聯合CEO。恰巧這一年,國家發改委釋出了《戰略新興產業重點產品和指導目錄(2016)》。目錄中明確指出,明確積體電路等電子核心產業地位,並將積體電路晶片設計及服務列為戰略新興產業重點產品和服務。

2018年,財政部、國家稅務總局、發改委以及工信部聯合釋出了《關於積體電路生產企業有關企業所得稅政策的通知》。通知指出,對滿足要求的積體電路生產企業實行稅收優惠減免政策,符合條件的積體電路生產企業可享受五年免徵收企業所得稅。中芯國際自然赫赫在列。

也正是在這樣的大背景下,梁孟鬆和趙海軍僅用了兩年時間便攻破了14nm技術。這對於中國半導體行業來說是前所未聞的。28nm、14nm、10nm、7nm乃至更小製程,都屬於先進製程。要知道,中國境內半導體行業幾乎從未涉及過這樣的領域,即便有,也很難像中芯國際一樣實現先進製程的量產業務。

而半導體產業彷彿也在迴應著梁孟鬆的努力一樣,從1999年的全球1494億美元銷售額,飆升到2018年的4687.78億美元銷售額,一個存在了半個多世紀的產業,還能有6.20%的複合增長率。以半導體行業價值鏈來看,晶圓製造環節價值最高,佔比50%,IC設計佔比20%,封測佔比15%,其餘產業價值歸為裝置和材料。

中芯國際的業務囊括了生產及封測,也就是半導體行業中最“吃香”的兩大類。隨著產業銷售總額的水漲船高,中芯國際的前途也無限光明。

梁孟鬆無疑是中芯國際的技術先驅,他在辭職信中所提及的“公司應對我這三年多的貢獻給予全面公正的評價”也是合情合理。畢竟連非半導體行業的從業者,也都瞭解到中國半導體的進步。他出走後,中芯國際A股臨時停盤前大跌9%,市值蒸發超過300億,也足以見得人們對他的評價。

而中芯國際的創始人張汝京,本身畢業於國立臺灣大學,曾加入德州儀器半導體擔任工程師,後創立了世大積體電路。造就了中芯國際濃厚的技術DNA,即便梁孟鬆離職,中芯國際的研發能力依然處於大陸第一線。

但正如上文所述,目前中芯國際所面對的問題,根本不是技術能解決的問題,縱使梁孟鬆這個技術奇才沒有離開中芯國際,這家公司也只能眼瞅著這塊“香餑餑”納入別人囊中。

從半導體產業來看,企業在採購積體電路時,高階產品一定會選用最高規格的先進製程,而中低端產品則會選用45nm到120nm左右規格的製程。這就導致了停留在N+1 7nm製程的中芯國際很難再大步向前,這也解釋了中誠信對中芯國際做出“較大的不確定性”這樣的評價。

轉機

張汝京從創立中芯國際之時,就是要向臺積電看齊的。臺積電目前的市場佔有率為50.81%,2018年營收330億美元,淨利潤116.4億美元。中芯國際市場佔有率為4.48%,2018年營收33.6億美元,淨利潤1.34億美元——市場份額是臺積電的十分之一,淨利潤卻低到了百分之一。

但是去細看他們的業務就會發現,臺積電的主要訂單都是7nm、5nm這樣的先進製程,可中芯國際的收入結構則是:40/45nm佔比17.2%、55/65nm佔比25.8%、150/180nm佔比31.2%。這也就意味著,臺積電的業務擁有極高的門檻,中芯國際的業務核心競爭力較低,可被替代。

這樣的情況再加上缺乏EUV帶來的技術停滯,勢必會造成差距進一步擴大的局面。

不過事情都有轉機,中芯國際本身也做好了準備。

中芯國際在北京亦莊興建的12寸晶圓廠中,裝置上完全脫離了美國路線,打造了去美化的生產車間。同時,這座新廠的供應鏈首次大批採用了國產供應商的材料。比如上海微電子193nm光源的光刻機,支援28nm製程。一旦得到驗證,那麼國產光刻機追趕ASML也將成為可能,從而使得中芯國際能夠大步流星地邁入7nm。

另一方面,從公告中來看,美國禁止的是10nm及以下技術節點。但是在晶片製造過程中,光刻膠、研磨劑等材料,都是有明確規定其所對應的製程規格,然而其他一些材料,是沒有對應制程規格的。

就拿EUV和DUV來說,這兩者最大的區別在於鐳射器釋放出來的紫外線的波長。EUV使用的是極深紫外線,DUV使用的是深紫外線。這兩種機器都需要用到光束矯正器、能量控制器等等——而這些產品是沒有限定製程的。因為通常來說,這些部件都有一定的向下相容性,這就導致10nm禁止的界定存在著一定的可協調性。如果中芯國際能夠利用好,那麼他們仍然具備探索7nm及以下製程的能力。

網上曾有許多傳言,比如梁孟鬆離職的原因是蔣尚義的薪水是梁孟鬆的三倍,梁孟鬆心裡不平衡,事實上這個說法來自於臺灣分析師丁兆宇的一次採訪,其真實性是有待考究的。但無論如何,中芯國際的下一腳該朝著哪邊邁,並不完全取決於此。

從行業的角度來看,中芯國際的發展歷程,幾乎就是我國半導體行業的發展歷程。而能影響國產半導體行業的東西只有能否讓供應鏈完全國產替代,這也是中芯國際在亦莊建造完全“去美國化”生產設施的本意。國產半導體的確存在很大的不確定性,它需要的更是時間,奮進吧。



原文連結:https://inewsdb.com/數碼/中芯國際的轉機在哪裡?

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